CVD-установки химического газофазного осаждения покрытий
Лабораторные установки химического газофазного осаждения CVD для нанесения покрытий из тугоплавких металлов и соединений (Та, ТаС, Nb, Mo и др.) на плоские образцы (ЛП), на образцы сложной формы (ЛС) и образцы трубчатой формы (ЛТ)
Установки позволяют проводить изучение процессов осаждения высокотемпературных защитных покрытий методами химического парофазного разложения или окисления-восстановления прекурсоров.
Особенностью установок является возможность проведения осаждения тугоплавких соединений с помощью восстановления галогенидов тугоплавких металлов цинком и кадмием. Кроме того, установки позволяют осаждать покрытия с помощью восстановления галогенидов тугоплавких металлов водородом, а также с помощью пиролиза, например, металлорганических соединений.Могут использоваться для низкотемпературного газофазного нанесения покрытий и создания нанопорошков тугоплавких металлов V, Cr, Mo, W, Hf, Zr, Nb, Ta, Re, а также их силицидов, боридов и карбидов.
Разрабатываемые технологии пригодны для нанесения беспористых высокоплотных покрытий в безводородных средах на детали сложной формы, в том числе трубчатые, с высокой скоростью нанесения. Кроме того, технологические решения позволяют создавать многослойные многофункциональные покрытий, один из слоев которых выполняет функции диффузионного барьера, а другой – защиты.
При нанесении покрытий используются реагенты и расходные материалы отечественного производства.
Эффект от применения:
Применение перечисленных материалов в виде покрытий позволит существенно снизить удельный вес оборудования, производственные и эксплуатационные затраты, а также повысить качественные характеристики производимых изделий.
Технические характеристики установок ЛП, ЛТ, ЛС:
- максимальная потребляемая мощность - 15 кВт,
- рабочее напряжение силового блока: трехфазная сеть 380 В,
- объемный расход газов-носителей - от 1 до 100 л/час,
- количество каналов подачи газа – 4 (2) шт, расход газов по каналам до 600 мл/мин (по воздуху),
- имеется возможность регулирования скоростей потоков газов,
- нагрев зоны осаждения покрытия на поверхности образца - 300 – 1100°С,
- рабочее давление вакуумной системы лабораторной установки от 10 до 2х105 Па,
- автоматизация процессов осаждения покрытий (компьютерное управление).
Преимущества CVD процессов
1) Возможность получения материалов высокой плотности и чистоты.
2) Хорошая воспроизводимость, адгезия и относительно высокие скорости осаждения.
3) Равномерное покрытие деталей сложной формы.
4) Контроль скорости осаждения. Низкая скорость осаждения благоприятствует росту эпитаксиальных тонких пленок для микроэлектроники. Для нанесения толстых защитных покрытий предпочтительна высокая скорость осаждения (до десятков мм в час).
5) Относительно простое и недорогое оборудование позволяет достичь разумной стоимости осаждения покрытий.
6) Возможность использования широкого спектра реагентов, таких как галогениды, гидриды, металлоорганические соединения, которые дают возможность осаждения большого спектра материалов.
7) Относительно низкие температуры осаждения по сравнению с температурами плавления.
Лабораторная установка для нанесения покрытий с помощью газотранспортных реакций на экспериментальные образцы плоской формы (ЛП).
Комплектация:
1.1. Узел подготовки и дозирования газа-носителя и газа-реагента -1шт;
1.2. Узел дозирования твердого и жидкого прекурсоров – 1шт;
1.3. Камера осаждения покрытия с устройствами нагрева детали и устройством ввода прекурсора – 1шт;
1.4. Система циркуляции, вакуумная система с блоком нейтрализации продуктов распада и блоком управления –
1шт.
Лабораторная установка для нанесения покрытий с помощью газотранспортных реакций на экспериментальные образцы внутренних поверхностей труб (ЛТ).
Комплектация:
1.1. реактор с реакционной камерой – 1шт;
1.2. система энергообеспечения установки – 1шт;
1.3. блок контроля и управления температурами в нагреваемых или охлаждаемых устройствах установки – 1шт;
1.4. узел управления скоростями подачи газов-носителей – 1шт;
1.5. узел дозирования твердых и жидких прекурсоров – 1шт;
1.6. блок нейтрализации продуктов реакций в реакционной зоне – 1шт;
1.7. блок автоматизированного управления работой установки – 1шт
Лабораторная установка для нанесения покрытий с помощью газотранспортных реакций на экспериментальные образцы деталей сложной формы (ЛС).
Нами были собраны установки для газофазного (парофазного CVD) осаждения для работы с небольшими натурными сложными формами. Установки включали в себя разработанные нами модульные унифицированные блоки для CVD установок и были построены на тех же принципах, что и исследовательская CVD-установка для образцов плоской формы.
Плюсом разработанной схемы сборки CVD-установок является то, что для работы с деталями разных форм требуется, в основном, только изменение конструкции реактора.
Поэтому наиболее существенным отличием установок являются реакторы, используемые для осаждения.
Комплектация:
1.1. реактор с реакционной камерой – 1шт;
1.2. система энергообеспечения установки – 1шт;
1.3. блок контроля и управления температурами в нагреваемых или охлаждаемых устройствах установки – 1шт;
1.4. узел управления скоростями подачи газов-носителей – 1шт;
1.5. узел дозирования твердых и жидких прекурсоров – 1шт;
1.6. блок нейтрализации продуктов реакций в реакционной зоне – 1шт;
1.7. блок автоматизированного управления работой установки – 1шт
Есть вопросы по CVD установкам?
Задайте их нашим специалистам в Онлайн-чате, отправьте письмом на sales@tspc.ru или отправьте Техническое Задание для просчета вашего заказа нашими технологами.